[OPIE’16] LEDinside OPIE'16 展場(chǎng)直擊
發(fā)布時(shí)間：2016-05-23 點(diǎn)擊數：3773
OPIE’15 于2016年5月18日-20日日本橫濱展出，與會(huì )廠(chǎng)商多為業(yè)界先進(jìn)技術(shù)專(zhuān)業(yè)廠(chǎng)商與尋找系統解決方案的廠(chǎng)商。此展會(huì )結合LASER EXPO、IR+UV EXPO、宇宙天文光學(xué)EXPO、LENS EXPO、光測量與定位EXPO 聯(lián)合展出，并新增Micro & Nano EXPO。根據OPIE’15年會(huì )展報告，展出廠(chǎng)商多為L(cháng)ASER、LENS、IR+UV廠(chǎng)商，前來(lái)的看展的廠(chǎng)商多為技術(shù)情報搜集與產(chǎn)品購入與導入為主，總計人數達15714人，可謂為技術(shù)發(fā)展的指標展會(huì )。
IR+UV EXPO 參展主要廠(chǎng)商包含研晶(HPLighting)，全球第二大UV-A 廠(chǎng)商Nitride Semiconductors、美國Phoseon、日本CCS、葳天、聯(lián)京等廠(chǎng)商。
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UV LED應用于曝光機一直有相當的難度，主要因為 UV LED的光學(xué)設計不容易達到平行光。汞燈光線(xiàn)有辦法透過(guò)玻璃管繞行，轉為平行光，LED光線(xiàn)繞行就會(huì )持續減少亮度，造成不必要的損失。然而，研晶推出的 UV LED光學(xué)設計，利用特殊二次光學(xué)設計，目前也可達到小于2度的平行光，更具均勻性的光學(xué)設計，相當適合應用于PCB / LCD / IC曝光機。此外，此產(chǎn)品設計強調的是導入新的設備機臺應用之中，目前已成功導入臺灣設備廠(chǎng)商與并送樣予日本客戶(hù)。未來(lái)研晶將持續加強雜光的處理，使得光不僅達到均勻性，更能達到聚集性。
研晶結合多年經(jīng)驗在光學(xué)設計，并向終端客戶(hù)請教，同時(shí)開(kāi)發(fā)水冷系統。與目前水冷系統上具有均溫與熱交換效率的問(wèn)題，也導致整體冷卻系統的效能存在多年問(wèn)題。研晶積極開(kāi)發(fā)冷卻系統，采用噴射增壓方式，將冷水置于內管，穩定將冷水經(jīng)由孔洞透過(guò)水壓噴射至熱水區，達到均溫的效果，并能穩定的帶走熱源，達
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聯(lián)京積極朝向覆晶CSP LED產(chǎn)品，推出全波長(cháng)產(chǎn)品，提供客制化服務(wù)。
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CCS 是日本最大AOI 光學(xué)檢測光源制造商，也提供紫外線(xiàn)LED產(chǎn)品相關(guān)服務(wù)。
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